反
，不?能被折，因?为它非常
易被
收。真空腔
的反镜需要特殊镀膜，把这束
，从源
路引导到晶圆……经过
几?次反，
终剩
的线不?到2%！”
围观过来的研
部成员倒口凉气，虽早知源转化率低，但听?到这数字还是?低得让他们心疼。
##新#
#
#找#回#……６ｕ６ｕ６ｕ．ㄈòМ
##新###
ｂｚ２０２１．ㄈòМ
源转化率低就意味着能量的巨
消耗，直观的例子，
euv机器输
功率两百瓦左右，工作
，耗电
?万度。
线利用率不?到2%已经是?优化其他
能所能够得到的佳数据，决定该能优化的决定关键就是?反镜的
度。
“度必须以皮秒来计算。”
换句话说，刻机所需的反镜度必须打磨到万亿分之米。
盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到线利用率达到
际标准。”
当有?
反驳：“都是?纳米级镀膜，反复镀膜也会影响度，工艺太难了?！”
难度多？
浅显易懂的比喻便是?将面直径不?超过
厘米的反镜放至覆盖
面，其平面起伏不?能超过根
的直径。
而刻机所需的反镜多达
层，平面度层比层要求更平整。
全球只有?德蔡司这家传承?
?以
的企业才造得这种反镜。
当然，反镜不?对华口。
盛明安：“不?用担忧反镜能不?能被打磨来，你们只需要尽己所能考虑反镜在的收集和转化率这单
，能够被如何利用到极致。”
“数据、模型，不?管失败成功，统统记录来。”
盛明安语速打机关
似的，
钉截铁、不?置喙，仿佛难度
到爆表的源系统在他
层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。
他
有?成竹，心有?沟壑。
他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气达每道
令就能安定实验室每个?
怯、不?自信的心。
“
颂，打开你的modelica先进?行?初步的超密激器建模仿真。”
modelica是?款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软
，可用于刻机某些超密部的仿真建模。
颂：“已在创建。”
他领着自己小组成员低忙碌。
“雷客，你调整路结构。”
“好。”雷客示意助手打开opc（
邻近矫正）软，通过模型
态仿真结果?计算查找表修正与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激源，就目前的技术展而言，刻机激源仍以激等离子体为
。
驱源产
的碎屑数量，谱纯度，每提个?技术节点消耗的功率和产能……其实
前先进?的euv，其功率消耗、产能低，再过
年也
能完
解决这两个?问题。
可盛明安不?清楚。
他虽不?愿用前世记忆盗窃他成果?提前制造产刻机，可前世是?他完解决euv产能低的问题，因?此习惯顺手将这难题归入待解决列表之。
以至于后来举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，际半导体了?事。
asml官对外
突破刻机量产瓶颈，正式对外售可量产14nm极紫外刻机！
此举瞬间激起千层
，全球各界媒体报道不?休，半导体烧友热闹得跟过年样纷纷表讨论。贴吧、技术论坛和
乎新帖不?断，基本都是?讨论asml这举措将带来怎么?的影响。
【刻巨：asml真正的崛起！】
科技对asml的新闻标题被搬到电子烧友论坛，论坛搬来这标题就已经表明了?他对来全球半导体位的划分认可。
【如标题所说，从今以后，asml是?唯的刻巨！】
【佳能、尼康的时??消失了?，刻机百
齐放
竞争的时??去不?复返，将来只有?asml骑绝尘的身影！】
【虽然不?想承认，但欧又在个?重要的领域实现了?科技霸权！】
【诸位，配
英特尔、通今年年初的将于15年实现14nm核心
理器、年末实现10nm核心理器的新闻会食用，而产刻机还停留在365nm
长的
??刻机技术节点！】
【拉开了?两?，落后
年。】
【华被
扼住半导体产业的喉咙……】
【感到窒息。】
另个?贴没有?这么?丧气，但基本是?在吹asml，回顾asml的历程，曾经也不?过是?个?半不?的小
司……
